'소송 취하'…SK하이닉스·도시바, 전방위 협력한다

[양태훈기자] 도시바가 SK하이닉스를 상대로 제기한 1조원대 소송을 끝내기로 했다. 협력과 소송은 별개라는 입장을 보여왔던 양측은 미세 공정 등 기술 협력을 위해 소송 취하 등 전방위적 협력을 확대하고 나서 주목된다.

SK하이닉스(대표 박성욱)는 19일 일본 도시바와 나노임프린트리소그래피(NIL) 기술 공동 개발에 나선다고 발표했다.

양사는 이번 공동 개발을 통해 차세대 공정기술인 NIL 개발의 성공 가능성을 높이고, 제품 양산을 통해 기술 상용화를 확대할 것으로 기대했다.

NIL 기술은 미세 패턴을 구현하는데 적합한 차세대 리소그래피 공정기술로, 막대한 투자가 선행돼야 했던 기존 공정기술 대비 경제적 비용을 줄일 수 있는 게 장점이다.

이는 불화아르곤(ArF) 이머전 또는 극자외선(EUV) 노광장비 대비 가격 경쟁력 측면에서 저렴한 UV 광원을 활용하는 만큼 이점이 있기 때문이다.

그동안 업계에서는 공정 미세화의 한계를 극복하기 위해 EUV 활용를 하는 방안과 NIL 기술 등이 고려돼 왔다. 양사는 이번 제휴로 향후 NIL을 통한 원가경쟁력 향상 등 효과를 얻을 것으로 기대했다.

더불어 이번 협력관계 구축으로 도시바는 지난 3월 SK하이닉스를 상대로 제기한 1조1천억 원 규모의 손해배상 소송을 모두 취하할 예정이다.

SK하이닉스관계자는 "이번 도시바와의 전방위적 협력 확대를 통해 기술경쟁력을 더욱 강화하고 잠재적인 경영의 불확실성을 해소하게 됐다"며 "특히 공정 미세화의 한계에 대응하기 위한 새로운 기술을 확보할 수 있게 돼 양사가 메모리 반도체 선두 업체로의 입지를 더욱 강화할 수 있을 것으로 기대한다"고 말했다.